小型鍍膜設備

簡要描述：1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。

所在城市：無錫市
廠商性質：生產廠家
更新日期：2025-11-05
訪問量：2861

產品分類

鍍膜機

查看全部產品

詳細介紹

品牌	LEBO/雷博

　　小型鍍膜設備是為掃描電鏡和電子探針等進行試樣制備的設備，可進行真空蒸碳、真空鍍膜和離子濺射，它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理。用本設備處理的試樣既可用于樣品的外貌觀察又可以進行成分分析，尤其是成分的定量分析更為適宜。本儀器配有機械泵、分子泵，分子泵系統特別適用于對真空度要求高、真空環境好的用戶選用。

　　1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。

　　2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。

　　3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。

　　4.主要用途：

　　1. 開發納米級單層、多層及復合膜層等。

　　2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等，例：銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......

　　3. 兩靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射。

　　5.應用領域：

　　1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等。

　　2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業。

　　薄膜均勻性概念：

　　1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整。

　　2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。

　　3、晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。

產品咨詢

留言框

產品：
您的單位：
您的姓名：
聯系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細地址：
補充說明：
驗證碼：

請輸入計算結果（填寫阿拉伯數字），如：三加四=7

草久在线视频图片小说二区三区_美国黑人又粗又大在线观看_GAV成人免费播放视频_精品欧美一区二区久久久伦

小型鍍膜設備

留言框

產品：

您的單位：

您的姓名：

聯系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細地址：

補充說明：

驗證碼：